MOCVD造AlScN HEMT:新盖层材料SiNx取代GaN
德国和荷兰的研究人员已经使用金属有机化学气相沉积(MOCVD)来创建AlScN势垒高电子迁移率晶体管(HEMT)。该团队还使用氮化硅(SiNx)盖材料来代替更常见的氮化镓(GaN),据该团队所知该材料...
德国和荷兰的研究人员已经使用金属有机化学气相沉积(MOCVD)来创建AlScN势垒高电子迁移率晶体管(HEMT)。该团队还使用氮化硅(SiNx)盖材料来代替更常见的氮化镓(GaN),据该团队所知该材料...
Transphorm要转变策略了。 氮化镓(GaN)先驱Transphorm已委托一家美国银行寻找买家。该公司第二季度的收入为500万美元,比上一季度下降15%,其中,355万美元来自销售GaN功率芯...