MOCVD造AlScN HEMT:新盖层材料SiNx取代GaN

德国和荷兰的研究人员已经使用金属有机化学气相沉积(MOCVD)来创建AlScN势垒高电子迁移率晶体管(HEMT)。该团队还使用氮化硅(SiNx)盖材料来代替更常见的氮化镓(GaN),据该团队所知该材料...